全美电视1月30日华盛顿报道，日本和荷兰1月27日同意加入美国的行列，限制向中国出口先进芯片制造设备。由于美日荷三国家主导着先进半导体设备的制造，因此该计划可能会使中国更难发展自己的芯片产业。
日本和荷兰在光刻制造工艺上占据主导地位，利用光在硅片上打印微型电路。荷兰制造商阿斯麦（ASML）基本上垄断了用于制造最尖端芯片的极紫外光刻（EUV）工艺所需设备的生产。该公司已经停止向中国运送该工艺所需的光刻机机器。
由于拜登政府去年10月扩大了对中国芯片相关的限制措施，一些荷兰和日本的老技术可能也需要受到限制，以使美国的措施生效，并避免迫使美国公司独自承受影响。日本尼康（Nikon）与荷兰阿斯麦在为深紫外光刻（DUV）技术提供零部件方面存在竞争，这种技术比极紫外光刻技术落后一步。1月27日的协议可能会限制日本和荷兰公司至少部分型号的深紫外光刻机器的出口。虽然美国政府成功说服日本和荷兰加入对华芯片出口限制的行列，是美国外交的一个胜利，但维持这一战略则需要认真工作。
中国一直是芯片制造工具的大客户，尽管阿斯麦公司尚未将其价值1.5亿美元的光刻机运往中国，但2022年阿斯麦系统销售额的14%左右来自中国。